微波等离子体制备氮杂二氧化钨钒薄膜

• 作者: 刘羽 王升高 陈金民 黄志良
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体 氮杂V0.98W0.02O2-xNy 相变温度 薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 44-47
• 页数: 4页
• 分类号: O484|TB43
• 字数: 1908字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2008.01.013

摘要

根据二氧化钒在68℃附近发生相变的这一特性,选用V2O5和W2O3为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,采用微波等离子体增强法,合成了氮杂二氧化钨钒(V0.98W0.02O2-xNy)薄膜.通过XRD表征了样品的组成,用自制的仪器测量了合成样品的相变温度,结果表明:样品为氮杂二氧化钨钒(V0.98W0.02O2-xNy),通过氮掺杂能有效降低二氧化钨钒薄膜的相变温度,相变温度最低可以降至35℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘羽	武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室	27	204	8.0	13.0
2	黄志良	武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室	87	317	9.0	12.0
3	陈金民	武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室	6	29	3.0	5.0
4	王升高	武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室	35	104	5.0	8.0