采用离子注渗技术原位合成纳米级碳化钨颗粒

• 作者: 刘俊友 孙晶 许振兴 许振华 赵天林 赵钢
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 渗碳 低碳钢 原位合成 碳化钨
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 180-184
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2511字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2008.03.005

摘要

采用高能离子注渗技术,首先在低碳钢表层注入W,然后再用渗碳的方法原位合成纳米级碳化钨(WC),其注渗层厚度达到1.0mm.低碳钢表层的显微硬度得到显著提高,从表层到心部硬度逐渐降低,呈梯度分布.通过扫描电镜、能谱分析、X射线衍射等分析手段证明了WC的存在.WC颗粒呈针状、板条状和块状弥散分布在低碳钢基体表层中,其尺寸在30～200nm之间.细小的WC颗粒与基体结合良好,有效地阻止了位错的运动和微裂纹的扩张,从而有效地提高了低碳钢基体的硬度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊友	北京科技大学材料与科学工程学院	67	485	12.0	19.0
2	赵天林		13	31	3.0	5.0
3	赵钢		10	27	2.0	5.0
4	许振华		3	11	3.0	3.0
5	孙晶	北京科技大学材料与科学工程学院	3	8	2.0	2.0
6	许振兴	北京科技大学材料与科学工程学院	1	4	1.0	1.0