准分子激光光刻技术及进展综述

• 作者: 王光伟
• 来源期刊: 天津工程师范学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子激光 激光光刻 刻蚀 集成电路工艺
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TN249|TN305.7
• 字数: 5334字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0926.2008.01.001

摘要

从准分子激光的概念及特点引入,概述了以248 nm KrF、193 nm ArF以及157 nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展,并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王光伟	天津工程师范学院电子工程系	18	78	5.0	8.0