图形化表面TiO2薄膜的制备及其对内皮细胞附着形态的影响

• 作者: 余文娟 刘恩庆 史芹 王向晖 胡石琼
• 来源期刊: 功能材料与器件学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 反应离子刻蚀 溶胶凝胶法 图形化表面TiO2薄膜 细胞附着
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 597-602
• 页数: 6页
• 分类号: TB39
• 字数: 4023字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-4252.2008.03.007

摘要

采用光刻技术和反应离子刻蚀法(RIE)先在硅表面制备出一系列平面尺寸不同的微图形阵列,然后采用溶胶凝胶(sol-gel)浸渍提拉法在其表面制备出均匀致密、表面粗糙度一致的锐钛矿型纳米晶TiO2薄膜.利用扫描电镜(SEM)和免疫荧光标记实验研究图形尺寸对人脐静脉内皮细胞(HUVEC)附着形态的影响.实验结果发现在化学成分、细胞毒性、表面粗糙度都不对细胞附着形态产生影响的条件下,HUVEC对图形尺寸的响应为:当平面空间足够时细胞的附着伸展性能较好,而当没有足够的平面空间时细胞的附着伸展性能较差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王向晖	华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室物理系	29	85	6.0	7.0
2	胡石琼	华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室物理系	3	17	2.0	3.0
3	刘恩庆	华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室物理系	2	17	2.0	2.0
4	史芹	华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室物理系	3	19	2.0	3.0
5	余文娟	华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室物理系	3	19	2.0	3.0