掺硼四面体非晶碳膜的微观结构及光谱表征

• 作者: 张化宇 朱嘉琦 檀满林 贾泽纯 韩杰才
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 四面体非晶碳(ta-C) XPS Raman光谱
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 180-184
• 页数: 5页
• 分类号: TB30
• 字数: 2526字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.01.035

摘要

分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳(ta-C:B)膜,并用X射线光电子能谱(XPS)、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究.XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在,随着B含量的增加,sp3杂化碳的含量逐渐减小,Ta-C:B膜的Raman谱线在含硼量较高时,其D峰和G峰向低频区偏移,且G峰的半峰宽变窄,表明B的引入促进了sp2杂化碳的团簇化,减小了原子价键之间的变形,从而降低了薄膜的内应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩杰才	哈尔滨工业大学深圳研究生院	298	4663	35.0	52.0
5	朱嘉琦	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	48	177	7.0	10.0
6	檀满林	哈尔滨工业大学深圳研究生院	6	30	4.0	5.0
7	张化宇	哈尔滨工业大学深圳研究生院	15	87	5.0	9.0
8	贾泽纯	哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所	2	8	2.0	2.0