混杂聚硼硅氮烷的陶瓷化过程研究

• 作者: 姜勇刚 张长瑞 曹峰 李斌 王思青
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚硼硅氮烷 裂解 陶瓷化 氮化硼
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 229-232
• 页数: 4页
• 分类号: TQ263|TQ264
• 字数: 2390字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.02.005

摘要

合成了新型的陶瓷先驱体混杂聚硼硅氮烷(H-PBSZ),分析了其结构,并采用TG-DTA,FT-IR、XRD以及SEM等分析手段对其裂解过程进行了研究.结果表明,H-PBSZ结构中含有B-N,Si-N、B-H、N-H,Si-H等化学键,随着裂解温度的升高,含氢键逐渐减少直至消失,最终得到BN和Si3N4的混合物.在裂解过程中,失重主要发生在100～400℃之间,陶瓷产率约为83wt%.裂解产物的结晶程度随着温度的升高逐渐增强,800℃的产物基本上为无定形态,微观形貌主要以球形颗粒为主; 1600℃的产物则已经晶化,可以观察到层片状结构的h-BN及少量的a-Si3N4晶粒.