钨掺杂对铷蓝青铜佩尔斯相变的影响

• 作者: 熊锐 田化梅 胡作启
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 佩尔斯相变 钨掺杂 铷蓝青铜 低维晶体 电荷密度波
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 电子与信息工程
• 页码范围: 57-59
• 页数: 3页
• 分类号: O414|TN305
• 字数: 2652字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2008.06.017

摘要

用电解还原法制备出了铷蓝青铜及其系列钨掺杂样品,实验研究表明:钨掺杂未改变铷蓝青铜单晶的晶体结构,但在佩尔斯相变温度(181 K)附近,纯铷蓝青铜出现电阻-温度曲线宽化行为,并发生金属到半导体的转变.当x=0.001时,钨掺杂铷蓝青铜Rb0.3Mo1-xWxO3呈金属性,出现平缓的佩尔斯相变;当x=0.003和0.020时,呈半导体态,其金属行为和佩尔斯相变消失.因此,引入钨在很大程度上抑制了佩尔斯相变及电荷密度波的形成,并导致佩尔斯相变温度下降和消失.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊锐	武汉大学物理科学与技术学院	38	109	5.0	9.0
2	胡作启	华中科技大学电子科学与技术系	17	60	5.0	7.0
3	田化梅	华中科技大学电子科学与技术系	6	60	4.0	6.0