碳化硼薄膜制备的研究进展

• 作者: 伍登学伍登学 廖志君 范强
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳化硼 薄膜 性能 制备方法
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 328-331
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1

摘要

综述了碳化硼材料的主要性能和制备碳化硼薄膜的主要方法，讨论了包括磁控溅射、离子束沉积和化学气相沉积等制备方法的优点及重要工艺参数，并就各方法指出了提高薄膜性能的主要措施，指出制备出更均匀、致密的碳化硼薄膜，提高薄膜与基体间的结合力，降低薄膜应力仍是今后研究的重点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖志君	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	17	37	4.0	5.0
2	范强	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	10	13	2.0	3.0
3	伍登学伍登学	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0