六方氮化硼原子层薄膜的制备研究

• 作者: 吕燕飞 张琪 李玉伟 赵士超
• 来源期刊: 杭州电子科技大学学报（自然科学版）
• 关键词: 六方氮化硼 氢气流量 前驱物温度 低压化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 101-105
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13954/j.cnki.hdu.2015.05.022

摘要

化学气相沉积法制备六方氮化硼原子层薄膜一直是研究的热点和难点,薄膜结晶质量会直接影响到石墨烯晶体管中石墨烯电子迁移率的高低. 为提高六方氮化硼原子层薄膜的结晶质量,采用低压化学气相沉积法,以硼烷氨作为前驱物,铜箔作为基底,研究了氢气流量和前驱物温度对六方氮化硼原子层薄膜生长的影响. 研究结果发现,较低的氢气流量有助于薄膜的连续生长,而前驱物温度对薄膜生长影响较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕燕飞	杭州电子科技大学材料物理研究所	13	22	2.0	4.0
2	赵士超	杭州电子科技大学材料物理研究所	11	7	2.0	2.0
3	李玉伟	杭州电子科技大学材料物理研究所	1	4	1.0	1.0
4	张琪	杭州电子科技大学材料物理研究所	3	6	2.0	2.0