金刚石基底上氮化硼薄膜的场发射特性研究

• 作者: 刘立华 李英爱 赵永年 顾广瑞
• 来源期刊: 高压物理学报
• 关键词: 氮化硼薄膜 场发射特性 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 309-312
• 页数: 4页
• 分类号: O521.2|TN873.95
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5773.2008.03.015

摘要

利用射频磁控溅射方法,在金刚石膜上沉积了氮化硼薄膜.红外光谱分析表明,氮化硼薄膜的结构为六角氮化硼.在超高真空系统中测量了样品的场发射特性,沉积在金刚石膜上的氮化硼薄膜的阈值电场为12 V/μm,最大发射电流密度为272 μA/cm2.并且沉积在金刚石膜上的氮化硼薄膜的场发射特性明显优于金刚石薄膜本身的场发射特性.这说明,氮化硼薄膜可以有效地改善金刚石膜的场发射特性.场发射Fowler-Nordheim(F-N)曲线表明,电子发射是通过遂穿表面势垒完成的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾广瑞	延边大学理工学院	26	115	5.0	10.0
2	刘立华	吉林大学超硬材料国家重点实验室	25	36	4.0	4.0
6	赵永年	吉林大学超硬材料国家重点实验室	23	119	7.0	9.0
7	李英爱	吉林大学超硬材料国家重点实验室	17	82	6.0	8.0