离子注入对多晶金刚石薄膜场发射特性影响的研究

• 作者: 朱长纯 邓宁
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 离子注入 场致发射 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 页码范围: 26-28
• 页数: 3页
• 分类号: TN412
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2000.04.007

摘要

对等离子增强化学气相淀积的(PECVD)多晶金刚石薄膜在N离子注入前后的场发射特性进行了研究.研究发现,同一工艺条件下淀积的多晶金刚石薄膜样品的发射特性在离子注入前有较大的差异,离子注入后金刚石薄膜场发射特性的差异基本得到消除,而且在高场下发射电流密度有一定程度的提高,场发射特性得到较大改善.在实验基础上,对N离子注入对多晶金刚石薄膜场发射特性的影响机理进行了理论研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱长纯		215	2372	22.0	41.0
2	邓宁		4	47	2.0	4.0