直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层设备的研制

• 作者: 何奇宇 姜龙 王少岩 王志娜 胡红彦
• 来源期刊: 河北省科学院学报
• 关键词: 化学气相沉积 等离子体炬 金刚石膜
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.492
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9383.2004.02.004

摘要

在已有的30kW金刚石膜设备基础上,研制出了直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层设备.这套设备用直径为200mm的喷嘴能够沉积出直径为190mm均匀度误差小于15%的金刚石膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志娜		5	10	2.0	3.0
2	王少岩		7	12	2.0	3.0
3	胡红彦		8	29	3.0	5.0
4	何奇宇		3	5	1.0	2.0
5	姜龙		11	12	3.0	3.0