凹球面基底离心式涂胶的数学模型及实验验证

• 作者: 巴音贺希格 张浩泰 李文昊
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 数学模型 离心式涂胶 凹球面 光刻胶
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 229-234
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4202字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.02.009

摘要

建立了凹球面基底离心式涂胶的数学模型.基于流体力学理论对旋转凹球面上的光刻胶做了受力分析,根据凹球面的面形给出了流体方程的边界条件,并引入和建立了光刻胶蒸发速率对涂胶基底面形的响应关系式,最终得到了一个描述光刻胶厚度随转速、基底面形及光刻胶参数变化的多项式方程,从此方程又简化得到平面上离心式涂胶的数学模型.涂胶实验结果表明,在凹球面上和平面上的光刻胶厚度理论计算值与测量值吻合,精度达到了纳米级.所建立的模型有较好的预见性和实用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0