激光烧蚀对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

• 作者: 任兆玉 李广山 李振红 田进寿 郑新亮 钟寿仙
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 碳纳米管薄膜 场发射 激光烧蚀 Raman光谱
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 7912-7918
• 页数: 7页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.12.081

摘要

采用丝网印刷工艺制作了碳纳米管(CNTs)薄膜阴极.经适当能量激光烧蚀后,相互粘连的CNTs随表面粘附有机物的蒸发而分散开,管间隙增加、屏蔽效应减小,使得场发射性能大幅度提高,开启场强降低、场倍增因子β增大.Raman光谱分析表明,随激光能量增加,CNTs表面缺陷增多,成为新的场发射点,对其β增大的贡献加强.相对于两电极结构,三电极中平栅极结构场发射性能经激光烧蚀有更显著的改善.这说明激光烧蚀是提高CNTs场发射性能的有效方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任兆玉	西北大学光子学与光子技术研究所	60	372	11.0	16.0
2	田进寿	中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子学国家重点实验室	41	236	9.0	13.0
3	郑新亮	西北大学光子学与光子技术研究所	29	185	8.0	13.0
7	钟寿仙	中国石油大学数理系	8	33	4.0	5.0
8	李广山	西北大学光子学与光子技术研究所	4	24	3.0	4.0
9	李振红	西北大学光子学与光子技术研究所	3	29	2.0	3.0