氧化铝缓冲层对ZnO薄膜性质的影响

• 作者: 向嵘 姜德龙 李野 王国政 王新 陈立
• 来源期刊: 长春理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 AI2O3缓冲层 X射线衍射 发光光谱 吸收光谱
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 407-409
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 1893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9870.2009.03.016

摘要

采用反应磁控溅射的方法在石英衬底上制备了一层AI2O3薄膜,并将其作为后续ZnO薄膜生长的缓冲层.然后,采用反应磁控溅射的方法在AI2O3缓冲层上制备了ZnO薄膜.对比研究了引入Al2O3缓冲层前后,ZnO薄膜的结构和光学特性.通过引入Al2O3缓冲层,发现ZnO薄膜样品的(002)方向X射线衍射峰的半峰宽(FWHM)明显减小,光致发光谱中与缺陷相关的可见发光峰强度明显减弱,吸收光谱中的吸收边变得更加陡峭.这些结果表明引入Al2Q3缓冲层后,ZnO薄膜的结构和光学特性得到了很大改善,为制备高质量ZnO薄膜提供了参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李野	长春理工大学理学院	68	297	9.0	13.0
2	姜德龙	长春理工大学理学院	25	153	6.0	10.0
3	王国政	长春理工大学理学院	51	208	8.0	11.0
4	王新	长春理工大学理学院	42	87	5.0	6.0
5	向嵘	长春理工大学理学院	12	57	5.0	6.0
6	陈立	长春理工大学理学院	3	16	3.0	3.0