均匀设计RulrSnLa/Ti氧化物涂层的回归与灰色关联分析

• 作者: 唐益 李庆芬 许立坤 辛永磊 龙萍
• 来源期刊: 化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金属氧化物涂层 均匀设计 稀土La 偏最小二乘回归(PLS) 灰色关联分析 电化学性能
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1325-1330
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0567-7351.2009.12.008

摘要

对RuIrSnLa四元金属氧化物涂层的组成进行了研究.采用均匀设计、偏最小二乘回归(PLS)与灰色关联度分析相结合的方法,以使用寿命、伏安电量、析氯电位、析氧电位及析氧析氯电位差为考察指标,对电化学性能的影响因素进行了主次分析,并对涂层配方进行了优选.结果表明:Ir对提高阳极的使用寿命影响最大.其次是Ru,Sn是提高析氧电位的主要元素,而La对提高阳极电催化活性,降低析氯电位及增大析氧析氯电位差起着主要作用,PLS分析认为,La对阳极稳定性呈负效应.采用偏最小二乘回归与灰色关联度相结合的分析方法,可以优势互补,为多元金属氧化物涂层的成分设计和理论研究提供依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李庆芬	哈尔滨工程大学机电工程学院	106	1010	17.0	24.0
2	辛永磊	中国船舶重工集团公司第七二五研究所海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室	11	64	4.0	8.0
3	许立坤	中国船舶重工集团公司第七二五研究所海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室	31	174	9.0	12.0
4	龙萍	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	14	95	6.0	9.0
5	唐益	中国船舶重工集团公司第七二五研究所海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室	3	27	2.0	3.0