均匀设计在氟氯西林钠工艺优化中的应用

• 作者: 产正人 刘慧勤 吕冠芳 王利杰 黄娟
• 来源期刊: 中国抗生素杂志
• 关键词: 氟氯西林 酰胺缩合 均匀设计 回归
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 分离纯化与化学合成
• 页码范围: 1514-1517
• 页数: 4页
• 分类号: R978.1+1|O213.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8689.2018.12.012

摘要

均匀设计适用于多因素多水平的实验设计.本文采用均匀设计对氟氯西林酰胺缩合单元工艺参数进行优化,运用U10(1010)均匀设计表对反应温度、加入丙酮体积和反应pH值3个因素进行了10个水平的筛选,考察反应率、杂质1～3与因素水平之间的关系.运用SPSS软件对数据进行回归分析,得到反应率、杂质1～3与因素水平之间的线性回归方程,预测了氟氯西林酰胺缩合单元最佳工艺参数范围.最后对回归方程进行了试验验证,预测值与实测值有良好的吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄娟		4	3	1.0	1.0
2	刘慧勤		3	2	1.0	1.0
3	产正人		1	0	0.0	0.0
4	王利杰		1	0	0.0	0.0
5	吕冠芳		2	1	1.0	1.0