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Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
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摘要：
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Dated deposition couplets link catchment erosion flux with storm discharge on the Chinese Loess Plat
Landslide-dammed reservoir on the CLP
Deposition couplet
XRF core scanning
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Erosion flux
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SiC含量对Ti3SiC2/SiC复合材料性能的影响
Ti3SiC2/SiC复合材料
力学性能
应力-应变行为
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
| 篇名 | Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode | ||
| 来源期刊 | 材料科学与工程：中英文版 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 沉积速率 SIC薄膜 脉冲溅射 阴极溅射 空心阴极 衬底温度 溅射技术 射频溅射 | ||
| 年，卷（期） | clkxygczy-a_2009,（8） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 1-7 | |
| 页数 | 7页 | 分类号 | TN304.24 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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沉积速率
SIC薄膜
脉冲溅射
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溅射技术
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期刊影响力
材料科学与工程：中英文A版
主办单位：
美国大卫出版公司
出版周期：
季刊
ISSN：
2161-6213
CN：
开本：
出版地：
武汉洪山区卓刀泉北路金桥花园C座4楼
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创刊时间：
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出版文献量（篇）
972
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