磁流变效应微磨头抛光特性研究

• 作者: 田虹 路家斌 阎秋生 高伟强
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变效应 微磨头 抛光特性 材料去除
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 页码范围: 24-28,33
• 页数: 6页
• 分类号: TG58|TH117.3
• 字数: 4330字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2009.04.005

摘要

为研究磁流变效应微磨头对玻璃等硬脆材料的抛光性能、考察Fe3O4基电磁流变液的抛光特性,在对微磨头基体的锥台端部的磁感应强度进行仿真分析的基础上,利用Fe3O4基磁流变液添加平均粒度7 μm的金刚石微粉对玻璃材料进行了抛光加工实验.实验研究了磁流变效应微磨头抛光玻璃工件时加工间隙、磁感应强度对材料去除的影响,考察了工件表面抛光截面的形状特征.结果显示磁流变效应微磨头定点抛光的加工痕迹呈近似"U"形,工件表面的材料去除主要取决于微磨头与工件表面的研磨压力和磨粒的自我更新能力,材料去除量随着电磁感应器励磁电压的增大而呈线性增大,而随加工间隙的增大呈线性减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
2	高伟强	广东工业大学机电工程学院	59	415	11.0	17.0
3	路家斌	广东工业大学机电工程学院	58	257	9.0	12.0
4	田虹	广东工业大学机电工程学院	3	14	2.0	3.0