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SiN Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
SiN Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
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摘要：
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Sin函数冷却法制备半固态铝合金
Sin函数
半固态
铝合金
制备
RF MLCC热应力分析
有限元
热应力
片式射频多层陶瓷电容器
热冲击
端电极厚度
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关键词云
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文献信息
| 篇名 | SiN Films Deposited by RF Magnetron Sputtering | ||
| 来源期刊 | 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 氮化硅薄膜 射频磁控溅射 多晶硅太阳能电池 少数载流子寿命 光生载流子 转换效率 未成年人 缺陷 | ||
| 年，卷（期） | jdwlyjshlzzlzjsqsysnbywb_2009,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 92-93 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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节点文献
氮化硅薄膜
射频磁控溅射
多晶硅太阳能电池
少数载流子寿命
光生载流子
转换效率
未成年人
缺陷
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期刊影响力
近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版
主办单位：
出版周期：
年刊
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CN：
开本：
出版地：
兰州31号信箱中国科学院近代物理研究所出版发行社社址:北京市海淀区阜成路43号(100037)
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创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
1640
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