氨基酸对电沉积CuBr薄膜的取向生长及形貌的影响

• 作者: 刘润 康红兰 徐铸德 李赫
• 来源期刊: 浙江大学学报（理学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 电沉积 CuBr 氨基酸 晶体生长
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 445-449
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 2410字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-9497.2009.04.019

摘要

以组氨酸、甘氨酸为添加剂,采用电沉积方法制备出具有不同生长取向和形貌的CuBr薄膜.用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见吸收光谱(UV-vis)和荧光光谱(PL)对样品进行了表征.结果表明:添加组氨酸后,CuBr晶体生长 (111)优先取向大大削弱,导致形貌转变为片状结构聚集成平均直径为4 μm的均匀微球.而甘氨酸添加剂对CuBr只有微弱的影响.另外对添加不同氨基酸电沉积制备CuBr晶体生长机理进行了初步探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐铸德	浙江大学化学系	103	2627	30.0	48.0
2	刘润	浙江大学化学系	10	19	3.0	4.0
3	李赫	浙江大学化学系	3	38	2.0	3.0
4	康红兰	浙江大学化学系	1	3	1.0	1.0