双层辉光沉积TiN涂层的力学性能研究

• 作者: 何翔 孙奉娄 陈首部 韦世良
• 来源期刊: 中南民族大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 辉光放电 TiN涂层 力学性能
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 化学与材料科学
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 2578字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4321.2009.03.008

摘要

采用双层辉光离子渗金属技术,在硬质合金YG8基体表面上沉积TiN涂层,通过外观、宏观性能和显微硬度等分析测试,研究了源极到阴极距离、基体温度、辉光放电气压对TiN涂层性能的影响.结果表明:TiN涂层的致密度、均匀性主要受源极到阴极距离的影响,其结合力主要取决于基体温度,而"边缘效应"则主要与辉光放电气压密切相关.双层辉光沉积TiN涂层的优化工艺参数为源极到阴极距离10～12 mm,基体温度750～850 ℃,气压280～340 Pa,所沉积TiN涂层的最高显微硬度可达2 356 HV0.05.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙奉娄	中南民族大学电子信息工程学院	76	434	13.0	15.0
2	何翔	中南民族大学电子信息工程学院	62	386	11.0	15.0
3	陈首部	中南民族大学电子信息工程学院	30	137	7.0	10.0
4	韦世良	中南民族大学电子信息工程学院	6	37	3.0	6.0