T10钢低温双辉等离子表面渗镀铬硬化的研究

• 作者: 郑英 高原
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: T10钢 双层辉光 渗镀铬 离子氮化
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 69-73
• 页数: 5页
• 分类号: TG1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2009.03.017

摘要

采用双辉等离子渗铬技术,首先在560℃对T10钢进行不同时间的渗铬,再对已渗铬试样进行4h离子氮化,研究了该工艺对渗镀铬层硬化效果的影响.结果表明:双辉渗铬后的渗层由厚3～5μm的沉积层+扩散层组成,沉积层组织致密并与基体结合良好,基体组织和晶粒度与渗铬前基本一致;沉积层铬浓度达45%(质量分数)以上,内有20～25μm的扩散层,铬浓度向内呈梯度分布;表面物相均由Fe,Fe-Cr,Cr7C3,Cr23C6等组成;渗层表面显微硬度达650~850HV,向内逐步降低,呈梯度分布.沉积层厚度、渗层深度、渗层的铬浓度及显微硬度等均随渗铬时间的增加而增加.渗层经离子氮化后的组织与氮化前的组织无明显变化,但表面物相为Fe-Cr,Cr7C3,Cr23C6,CrN,Fe4N,表面显微硬度提高到1000~1350HV,较未氮化前提高约60%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高原	桂林电子科技大学信息材料科学与工程系	145	940	14.0	24.0
2	郑英	桂林电子科技大学信息材料科学与工程系	8	24	3.0	4.0