Ti(0001)表面低能沉积Ti原子的分子动力学模拟

• 作者: 刘天伟 张庆瑜 赖新春 颜超 黄河
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 分子动力学(MD) 嵌入原子法(EAM) 溅射 吸附 空位
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 211-216
• 页数: 6页
• 分类号: O562.4
• 字数: 3872字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2009.02.015

摘要

采用嵌入原子势,运用分子动力学(MD)研究了Ti(0001)表面低能沉积不同能量Ti原子时表面吸附、溅射和空位的变化.低能Ti原子沉积Ti(0001)表面过程中,存在一个溅射能量阈值,其值大约为40-50 eV.入射原子能量低于溅射阈值时,入射原子可以认为是沉积原子;入射原子能量大于溅射阈值时,溅射产额随入射原子能量的增加而线性增加.表面吸附原子和溅射原子的分布都呈现6次旋转对称,当入射原子能量大于溅射阈值时,表面吸附原子主要是基体表层原子,入射原子直接成为表面吸附原子的概率很小.空位缺陷主要分布在基体的最表层,当入射原子能量大于溅射阈值时,基体次表层产生的空位缺陷随入射原子能量的增加而增多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄河		6	14	3.0	3.0
2	刘天伟		18	58	4.0	6.0
3	张庆瑜	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	92	897	16.0	25.0
4	赖新春		21	41	3.0	5.0
5	颜超	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	7	13	2.0	3.0