光学元件超精密气囊抛光关键技术研究现状

• 作者: 于国彧 张伟 李洪玉
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 空间光学 超精密加工 气囊抛光 光学元件 面形精度
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 专题:空间光学
• 页码范围: 27-34
• 页数: 8页
• 分类号: O439
• 字数: 4001字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS20092901.0027

摘要

空间光学元件对面形精度和表面质量有着极高的要求,气囊抛光采用了新型的抛光工具和特殊的运动形式,是一种高精度、高效率的光学元件加工方法,尤其适用于非球面的加工,具有广阔的应用前景.分析了气囊抛光技术的基本原理及该技术的发展过程,介绍了气囊抛光相关技术的研究情况和实验结果,对几项关键技术的研究现状进行综述,重点介绍材料去除特性、驻留时间控制算法、边缘精度控制以及最新开发的喷液抛光技术的研究情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟	哈尔滨工业大学空间光学工程研究中心	281	3078	27.0	38.0
2	李洪玉	哈尔滨工业大学空间光学工程研究中心	6	139	5.0	6.0