In:Er:LiNbO3晶体生长及抗光损伤性能

• 作者: 于峰 余萍 关承祥 刘威 徐玉恒 王义杰 范叶霞
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铟铒双掺铌酸锂晶体 吸收光谱 光损伤 荧光光谱
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文,中文
• 页码范围: 1328-1331
• 页数: 4页
• 分类号: O738|O782
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2009.08.011

摘要

掺入摩尔分数为1%In2O3和0.5%Er2O3,从n(Li)/n(Nb)比为0.94,1.05,1.20,1.38的熔体中用提拉法生长In:Er:LilbO3(In:Er:LN)晶体.测试了晶体的紫外-可见吸收光谱、荧光光谱和抗光损伤阈值.结果表明:随着n(Li)/n(Nb)增加,晶体吸收边发生紫移,晶体的荧光发光强度和晶体抗光损伤阈值增强.n(Li)/n(Nb)为1.38的近化学计量比晶体的荧光发光强度和抗光损伤阈值最高.对不同n(Li)/n(Nb)的晶体的吸收边移动和抗光损伤阈值和荧光发光强度增强的机理进行讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐玉恒		70	231	6.0	10.0
2	余萍	哈尔滨理工大学应用科学学院	4	11	2.0	3.0
3	刘威	哈尔滨理工大学应用科学学院	11	30	3.0	5.0
4	关承祥	哈尔滨师范大学物理系	15	70	3.0	8.0
5	王义杰	哈尔滨理工大学应用科学学院	22	73	5.0	7.0
6	范叶霞	哈尔滨理工大学应用科学学院	11	22	3.0	3.0
7	于峰	哈尔滨理工大学应用科学学院	5	14	2.0	3.0