氟化物材料在深紫外波段的光学常数

• 作者: 易葵 范正修 薛春荣 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 光学常数 包络法 氟化物材料 深紫外
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 5035-5040
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.07.104

摘要

研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190-500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法研究了它们的折射率和消光系数,研究了影响透射率和光学常数的主要因素,给出了6种氟化物材料的光学常数公式和光谱色散曲线,为紫外技术与应用研究提供了参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	薛春荣	常熟理工学院江苏新型功能材料实验室	16	137	7.0	11.0
7	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	299	11.0	16.0