原文服务方: 科技与创新       
摘要:
为了提高硅片光刻工艺中-涂胶及软烘两操作的实验效率.减少手工操作可能带来对硅片表面的污染.系统采用机械手代替手工完成硅片在各工位之间自动化传输.硬件部分采用PLC作为控制核心部件,由步进电机、接近开关、光电开关、热电阻、电磁间等组成.详细介绍了软件控制方法,实现硅片精确传输、光刻胶用量控制、软烘温度检测等功能.
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单片机
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 硅片涂胶及软烘自动设备的研制
来源期刊 科技与创新 学科
关键词 PLC 精确传输 滴胶量控制 温度控制
年,卷(期) 2009,(25) 所属期刊栏目 控制系统
研究方向 页码范围 77-79
页数 3页 分类号 TP271+.4
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王慧 西安工业大学光电工程学院 8 16 2.0 3.0
2 徐昌杰 西安工业大学光电工程学院 17 68 5.0 8.0
3 张海刚 西安工业大学电子信息工程学院 4 27 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
PLC
精确传输
滴胶量控制
温度控制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技与创新
半月刊
2095-6835
14-1369/N
大16开
2014-01-01
chi
出版文献量(篇)
41653
总下载数(次)
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