新型聚酰亚胺图形化工艺制备视网膜电极

• 作者: 刘景全 周然 徐旻 朱军 陈翔 陈迪
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 医学
• 关键词: MEMS 生物电极 牺牲层 聚酰亚胺 光刻
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: MEMS器件与技术
• 页码范围: 105-109
• 页数: 5页
• 分类号: R318.18|Q811.21
• 字数: 3686字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2010.02.009

摘要

介绍了一种新型的、基于Cu牺牲层的聚酰亚胺图形化方法制备视网膜电极的MEMS工艺,并对其电化学性能进行了表征.该工艺创新性地以Cu作为衬底聚酰亚胺图形化的牺牲层,以PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为剥离层,以聚酰亚胺作为封装材料,以惰性金属作为电极保护层材料,通过电铸、牺牲层和抛光打磨工艺,制备出可以自释放的柔性视网膜电极;随后,对器件进行封装,并对器件的表面形貌和电学性能进行了表征.视网膜电极器件厚度50μm,电路线宽50μm,阻抗104～105Ω.通过该工艺制得的人造视网膜电极具有柔软无伤害、生物相容以及低成本的优点.