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摘要:
以In2O3和活性炭混合物为蒸发源,利用化学气相沉积法在硅衬底上制备了In2O3纳米线.对In2O3纳米线的生长机理进行讨论,认为在衬底表面维持一定的氧化铟基团浓度是导致出现In2O3纳米线的原因,因此可以通过调节氧化铟基团的浓度去控制准一维In2O3纳米结构的生长.
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文献信息
篇名 In2O3准一维纳米结构的可控制备研究
来源期刊 汕头大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 氧化铟 纳米线 可控制备 生长机理
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 32-38
页数 分类号 TN304
字数 3906字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-4217.2010.03.006
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴萍 汕头大学物理系 16 73 5.0 8.0
2 池凌飞 汕头大学物理系 14 153 6.0 12.0
3 孙凯 汕头大学物理系 1 0 0.0 0.0
4 赵传熙 汕头大学物理系 2 20 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
氧化铟
纳米线
可控制备
生长机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
汕头大学学报(自然科学版)
季刊
1001-4217
44-1059/N
16开
广东省汕头市大学路243号
46-17
1986
chi
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992
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3
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3796
论文1v1指导