一种二氧化钒膜的新的生长模式

• 作者: 吴志明 廖家轩 田忠 蒋亚东 贾宇明 魏雄邦
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钒膜 膜厚 直流磁控溅射
• 年，卷（期）: 2010,（z1）
• 页码范围: 289-292
• 分类号: O614.51+1|TN213
• 字数: 2836字
• 语种: 中文

摘要

采用直流反应磁控溅射法,在Si(100)基片表面沉积厚度为1000 nm的二氧化钒膜.利用X射线衍射(XRD)仪和扫描电镜(SEM)分析膜的晶相和形貌,观察到二氧化钒膜的一种新的生长模式.X射线衍射分析表明生成的膜为典型的多晶二氧化钒膜,其(200)晶面衍射峰较强.扫描电镜(SEM)分析表明,随着膜厚的增加,膜表面晶粒增大,膜表面的晶粒呈现出独特的"纺锤"状或"棒"状;膜具有明显的 "柱"状生长特征,在膜厚380 nm以上时,"柱状"晶生长速率快速提高.样品的阻温特性分析表明,生成的二氧化钒膜具有典型的金属-半导体相变特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明		78	544	13.0	17.0
2	蒋亚东		318	2024	18.0	25.0
3	田忠		37	160	7.0	11.0
4	贾宇明		14	70	3.0	8.0
5	廖家轩		22	106	7.0	8.0
6	魏雄邦		18	94	6.0	8.0