电沉积宽晶粒尺寸分布纳米镍的本征拉伸行为

• 作者: 戴品强 胡树韧 许伟长 郑耀东
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米镍 拉伸行为 阴极析氢 电沉积
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 1845-1848
• 分类号: TG174.441
• 字数: 3639字
• 语种: 中文

摘要

通过直流电沉积制备平均晶粒度为27.2 nm,宽晶粒尺寸分布(10～120 nm)的纳米镍(B-NC-Ni).在B-NC-Ni的拉伸实验中,存在着两类不同的工程应力-应变曲线及宏观断口,结果表明:完整的拉伸曲线即本征曲线,具有恒应力变形阶段,宏观断口呈切断;而不完整的拉伸曲线在平台出现之前已发生断裂,主要是由于电沉积时阴极析出的H可能会使镀层形成空位和微孔两类缺陷,均会加剧变形时晶界上裂纹的形成,宏观断口呈正断.此外,实验中杂质S(0.015%,质量分数,下同)对B-NC-Ni的拉伸性能影响可忽略.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴品强		83	740	15.0	23.0
5	许伟长		14	87	5.0	9.0
6	郑耀东		4	33	2.0	4.0
7	胡树韧		1	0	0.0	0.0