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摘要:
利用循环伏安法和恒电位阶跃技术,研究浓度为0.01 mol/L 铜离子对镍在玻碳电极上电结晶行为的影响.研究结果表明:在含0.01 mol/L 铜离子的Watts镀液中,电位在-0.3 V左右出现铜的还原反应峰,当电位负移到-0.75 V时,镍开始结晶沉积;与纯Watts镀液(电位约-0.85 V)相比,铜离子的引入促进了镍的电结晶形核和生长,这是因为铜离子的存在降低了镍电结晶形核过电位;在含0.01 mol/L铜离子的Watts镀液中,电结晶过程仍基本遵循Scharifker-Hill模型,铜离子的引入并没有改变镍电结晶行为;高负电位下,金属离子的结晶成核方式遵循瞬时成核机制,低负电位下则趋向遵循连续成核机制.
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文献信息
篇名 铜离子对镍在玻碳电极上电结晶行为的影响
来源期刊 中南大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 电结晶 形核 循环伏安 计时安培
年,卷(期) 2010,(1) 所属期刊栏目 材料科学与工程
研究方向 页码范围 144-149
页数 分类号 TG174.44
字数 3270字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 谭澄宇 2 20 2.0 2.0
2 刘宇 1 16 1.0 1.0
3 贾志强 1 16 1.0 1.0
4 胡炜 1 16 1.0 1.0
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