光纤耦合波导器件中光波导深度的研究

• 作者: 宁继平 王俊涛 赵勇 韩群 高志伟
• 来源期刊: 光通信技术
• 学科: 工学
• 关键词: Ti LiNbO3波导 波导模场 扩散深度 光纤耦合损耗
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 光器件
• 页码范围: 26-29
• 分类号: TN252
• 字数: 3530字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-5561.2010.04.009

摘要

声光波导光开关可以作为高速光通信网络中的开关器件,其中光纤-器件对接耦合损耗大是影响其性能的主要因素.从光波导模场椭圆度和不对称度对模场失配引起的耦合损耗出发,计算Ti:LiNbO3波导与光纤耦合损耗最小时对应的最佳Ti离子扩散深度.分析得到不同切型的Ti:LiNbO3,波导中扩散深度、光纤模场半径对耦合损耗的影响.结果表明,y切Ti:LiNbO3波导耦合损耗约为z切波导的3倍.研究结果为共面型声光波导调制器中光波导制作参数的设计提供帮助.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵勇	天津大学精密仪器与光电子工程学院	8	80	4.0	8.0
2	宁继平	天津大学精密仪器与光电子工程学院	16	180	7.0	13.0
3	高志伟	天津大学精密仪器与光电子工程学院	18	188	8.0	13.0
4	韩群	天津大学精密仪器与光电子工程学院	10	47	4.0	6.0
5	王俊涛	天津大学精密仪器与光电子工程学院	1	4	1.0	1.0