C2Hx(x=4～6)在Ni(111)表面吸附的DFT研究

• 作者: 张福兰
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: C2Hx Ni(111)表面 吸附能 态密度 密度泛函理论
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 1175-1182
• 分类号: O641|O647
• 字数: 3805字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2010.06.028

摘要

采用密度泛函理论与周期平板模型相结合的方法,对物种C2Hx(x=4～6)在Ni(111)表面的top,fcc,hcp和bridge位的吸附模型进行了结构优化、能量计算,得到了各物种较有利的吸附住;并对最佳吸附位进行密立根电荷和总态密度分析.结果表明:C2H6和C2H4在Ni(111)表面的最稳定吸附位都是top位,吸附能分别是-36.41和-48.62 kJ·mol-1,物种与金属表面吸附较弱;而C2Hs在Ni(111)表面的最稳定吸附位hcp的吸附能是-100.21 kJ·mol-1,物种与金属表面较强;三物种与金属表面之间都有电荷转移,属于化学吸附.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张福兰	长江师范学院化学化工学院	28	84	5.0	7.0