电压增幅对镁合金微弧氧化膜层性能的影响

• 作者: 郝远 陈明 马跃洲 马颖
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 电弧放电 腐蚀率
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 1943-1947
• 分类号: TG174
• 字数: 5152字
• 语种: 中文

摘要

研究了硅酸盐体系微弧氧化过程中,电源电压增幅对放电火花形态及AZ91D镁合金膜层的厚度、表面形貌和耐蚀性有影响.结果表明,随着脉冲电压增加,电弧的弧斑亮度增强、尺寸变大,但数目减少,大弧倾向增加;微弧氧化膜层的厚度增厚,但成膜速率降低;膜层表面熔融物颗粒增大,表面孔径增加,粗糙度增加:腐蚀率呈现出先减小后增加的趋势.当电压增幅为100～150 V时,其过程稳定性、成膜速率、膜层外观质量和耐蚀性等方面的综合性能相对最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马颖		7	96	5.0	7.0
2	马跃洲		2	26	1.0	2.0
3	陈明		1	25	1.0	1.0