金-瓷结合界面与瓷-瓷结合界面的元素扩散

• 作者: 刘学恒 崔军 巢永烈 胡爱云 贾黎 马练
• 来源期刊: 实用口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 全瓷材料 界面 结合强度
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 743-746
• 分类号: R783.1
• 字数: 2668字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3733.2010.06.09

摘要

目的:比较研究金-瓷、瓷-瓷2种结合界面微观形貌以及结合机制.方法:制作15 mm×5 mm× 1 mm金-瓷与瓷-瓷双层结构试样各1个,将以上2试样均从中一分为二,自凝塑料包埋,断面经高度打磨抛光并表面喷金,做扫描电子显微镜和能谱分析.结果:扫描电镜发现瓷-瓷界面较金-瓷界面结合更加紧密,无明显间隙.能谱分析显示金-瓷结合界面发生Cr、O、Si元素的扩散,瓷-瓷界面发生Si、Al、K元素的扩散.结论:金-瓷界面与瓷-瓷界面均能达到化学结合,瓷-瓷界面较金-瓷界面结合更紧密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巢永烈	四川大学华西口腔医院修复科	157	1299	18.0	24.0
2	马练	北京大学深圳医院口腔科	23	119	6.0	10.0
3	刘学恒	北京大学深圳医院口腔科	47	256	9.0	13.0
4	胡爱云	北京大学深圳医院口腔科	15	55	4.0	7.0
5	贾黎	北京大学深圳医院口腔科	14	49	4.0	6.0
6	崔军	北京大学深圳医院口腔科	16	62	4.0	7.0