ZrB2-Si3N4高温复相陶瓷的制备及抗氧化机理研究

• 作者: 宋杰光 张小强 徐斌 李世斌 李伟 纪岗昌
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: 二硼化锆 氮化硅 复相陶瓷 真空热压烧结 氧化机理
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 519-521
• 页数: 3页
• 分类号: TQ174.758

摘要

由于ZrB2具有极高的熔点、强度、硬度和导电率等许多优异性能，因而其应用领域非常广泛。研究了ZrB2-Si3N4复相陶瓷的制备和高温下的氧化机理。结果表明，在1700℃、15MPa、2h烧结条件下制备的ZrB2-20％Si3N4复相陶瓷的致密度为98％左右。ZrB2-Si3N4复相陶瓷在高温氧化时生成了SiO2，并且SiO2液相容易在复相陶瓷表面富集形成一层保护膜，有望提高陶瓷在更高氧化温度下的抗氧化性能。