复合剪切力场下纳米SiO2的制备及原位改性

• 作者: 刘亦武 刘跃军 阙永生 魏珊珊
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米二氧化硅 复合剪切力场 原位改性
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文,中文
• 页码范围: 1064-1069
• 页数: 6页
• 分类号: TB321
• 语种: 中文

摘要

以工业硅酸钠为前驱物、盐酸为沉淀剂、聚乙二醇为表面活性剂、硅烷偶联剂为改性剂,在复合剪切力场下,用化学沉淀法制备纯纳米二氧化硅(SiO2)和原位改性纳米SiO2,并进行放大实验.分析复合剪切力场下纳米SiO2的形成过程以及不同剪切力场、进料方式等对纳米SiO22型貌的影响.用Fourier红外光谱、透视电子显微镜、热重分析及粒径分析仪等对产品进行表征,结果表明:在复合剪切力场下制备的纳米SiO2的形貌近似为球形、平均粒径为19.5 nm且粒径分布窄,原位改性纳米SiO2的分散效果良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏珊珊	湖南工业大学包装新材料与技术重点实验室	23	112	6.0	9.0
2	刘亦武	湖南工业大学包装新材料与技术重点实验室	34	138	6.0	9.0
3	刘跃军	湖南工业大学包装新材料与技术重点实验室	124	605	11.0	18.0
4	阙永生	湖南工业大学包装新材料与技术重点实验室	6	47	4.0	6.0