孔径可调的介孔SiO2自支持薄膜的溶剂挥发诱导自组装合成与表征

• 作者: 俞义轩 刘建 刘茜 南海明 李恒德 蔡强
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 介孔薄膜 溶剂挥发诱导自组装 孔径调节
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 2136-2140
• 分类号: O614|O647.2
• 字数: 3159字
• 语种: 中文

摘要

以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂, 正硅酸乙酯为硅源, 在弱酸性条件下利用溶剂挥发诱导自组装(EISA)合成出具有介孔结构的二氧化硅薄膜. 通过控制EISA过程中溶剂挥发的环境, 可在1.4～3.1 nm的范围内调节介孔结构的孔径. 实验表明, 较快的溶剂挥发速率有助于较大孔径的介孔结构生成. 用该方法合成的介孔薄膜具有蠕虫状孔道结构和良好的孔径均一性. 在外观上, 该薄膜具有均匀、透明和无缺陷等特点, 可以自支撑, 并且具有一定的韧性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡强	清华大学材料科学与工程系	32	310	11.0	16.0
2	刘茜	清华大学材料科学与工程系	17	181	6.0	13.0
3	刘建	清华大学材料科学与工程系	11	127	7.0	11.0
4	李恒德	清华大学材料科学与工程系	18	986	12.0	18.0
5	俞义轩	清华大学材料科学与工程系	1	3	1.0	1.0
6	南海明	清华大学材料科学与工程系	2	7	2.0	2.0