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摘要:
以界面势垒对碳纳米管(CNT)场发射的影响为研究目的,在硅衬底上引进很薄的二氧化硅层,以二氧化硅层作为绝缘势垒,然后在二氧化硅界面层上直接生长CNT,来研究二氧化硅绝缘势垒层对CNT场发射的影响.场发射结果为:Fowler-Nordheim(F-N)曲线分为两部分,高电场下偏离F-N曲线并趋于饱和.在双势垒模型的基础上,从电场在两势垒上的分布不同及电子在两势垒上的隧穿几率不同,理论上分析了界面势垒对场发射的影响:低电场下电子在界面势垒的隧穿几率大于在表面势垒的隧穿几率,界面势垒对场发射不起阻碍作用,场发射遵守F-N规律;高电场下电子在界面势垒的隧穿几率小于在表面势垒的隧穿几率,场发射偏离F-N规律.理论对实验结果进行了合理的解释.
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文献信息
篇名 界面势垒对碳纳米管场发射特性的影响
来源期刊 强激光与粒子束 学科 物理学
关键词 碳纳米管 场发射 绝缘势垒 隧穿几率 双势垒模型 非线性F-N曲线
年,卷(期) 2010,(2) 所属期刊栏目 粒子束技术
研究方向 页码范围 397-400
页数 4页 分类号 O462
字数 1831字 语种 中文
DOI 10.3788/HPLPB20102202.0397
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 季振国 杭州电子科技大学电子信息学院 33 116 5.0 9.0
2 陈雷锋 杭州电子科技大学电子信息学院 3 8 2.0 2.0
3 糜裕宏 杭州电子科技大学电子信息学院 2 12 2.0 2.0
4 毛启楠 浙江大学硅材料国家重点实验室 6 10 2.0 2.0
传播情况
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碳纳米管
场发射
绝缘势垒
隧穿几率
双势垒模型
非线性F-N曲线
研究起点
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强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
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