电子束自动扫描SiO2材料沉积速率控制实验研究

• 作者: 易葵 王宁 范正修 邵建达 魏朝阳
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 薄膜工艺 自动扫描 沉积速率控制
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 2615-2619
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103710.2615

摘要

沉积速率是电子束蒸发制备光学薄膜的重要工艺参数之一,影响着成膜的微观结构和化学成分,从而对薄膜的光学性质和机械性质都产生很大的影响.SiO2材料是制备光学薄膜的主要低折射率材料之一,由于其导热性很弱,并且以升华的方式进行蒸发,因此在蒸发过程中表面会出现凹坑,影响其蒸发特性,不利于沉积速率的稳定.考虑到SiO2材料的蒸发特性,进行了电子束自动蒸发SiO2材料沉积速率控制实验,利用设计的扫描控制仪,采用设计的路径进行焦斑自动扫描,在扫描过程中采用比例-积分-微分(PID)闭环反馈法对沉积速率进行控制,实验结果表明,通过控制可以得到良好的材料表面特性和较稳定的沉积速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	王宁	中国科学院上海光学精密机械研究所	130	1601	19.0	36.0
5	魏朝阳	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	74	4.0	8.0