用于光刻投影物镜检测的高精度菲佐干涉仪误差分析

• 作者: 刘伟奇 康玉思 张健 苗二龙 谷勇强
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 误差分析 参考面精度 环境控制 菲佐干涉仪
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 2029-2034
• 页数: 6页
• 分类号: O439|TH744.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103708.2029

摘要

光刻投影物镜元件面形精度为纳米量级,因此要求检测精度为纳米到亚纳米量级.为了完成光刻投影物镜的光学元件面形检测任务,提出了利用菲佐型干涉仪进行检测的方法.通过理论分析和计算模拟,分别对相移误差、参考面误差、探测器非线性误差等系统误差以及光源稳定性、环境控制等影响干涉仪测量精度的主要因素进行分析,给出了测量误差大小与干涉仪结构参数之间的关系.计算结果表明,限制菲佐干涉仪检测精度的主要因素是参考面的精度和环境的影响.针对以上结果给出了提高干涉仪测量精度与减小测量误差的方法,对高精度菲佐干涉仪的研制具有一定的参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张健	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	272	3714	30.0	51.0
2	刘伟奇	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	50	494	14.0	19.0
3	康玉思	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	21	160	8.0	12.0
4	谷勇强	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	12	40	3.0	6.0
5	苗二龙	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	18	37	4.0	6.0