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摘要:
依据Ga,A1在Si和SiO_2中的扩散行为和特性,采用SiO_2/Si系统,利用磁控装置精确控制Ga掺杂量,实现镓铝双质掺杂在同一扩散炉中经一次高温连续完成.该项掺杂技术能实现Si中的高均匀掺杂,扩散参数具有良好的重复性和一致性,可获得较理想的杂质浓度分布.Ga,Al与Si的共价半径相接近,高温后又采取缓慢降温等措施,能明显减少晶格缺陷,提高少子寿命,降低压降.研究了受主双质掺杂与晶闸管参数之间的关系,并对镓铝双质掺杂提高晶闸管性能的机理进行了深入的分析与讨论.研究表明,镓铝双质受主掺杂有利于提高晶闸管的耐压水平和浪涌能力,能明显改善电流特性、触发特性和动态特性,优于其他受主掺杂技术.
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金属掺杂
光学特性
研究进展
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 镓铝双质掺杂提高晶闸管性能的机理研究
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 镓铝双质掺杂 机理 晶闸管 性能
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 1964-1969
页数 6页 分类号 O6
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王公堂 山东师范大学物理与电子科学学院 32 104 6.0 8.0
2 刘秀喜 山东师范大学物理与电子科学学院 9 6 2.0 2.0
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镓铝双质掺杂
机理
晶闸管
性能
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相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
教育部科学技术研究项目
英文译名:Key Project of Chinese Ministry of Education
官方网址:http://www.dost.moe.edu.cn
项目类型:教育部科学技术研究重点项目
学科类型:
论文1v1指导