多光束激光干涉光刻图样

• 作者: 刘维萍 张伟 彭长四 谈春雷 顾小勇
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 微纳结构 纳米制造 激光干涉光刻 激光干涉图样
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 2011全国先进光学制造与战略新兴产业发展论坛暨学术会议论文
• 页码范围: 3157-3162
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3738字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112312.3157

摘要

利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素.研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加；相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化,图样也随之变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟	苏州大学信息光学工程研究所	134	723	13.0	20.0
2	刘维萍	苏州大学信息光学工程研究所	1	10	1.0	1.0
3	顾小勇	苏州大学信息光学工程研究所	1	10	1.0	1.0