凹槽形Cu衬底上同质外延生长的分子动力学模拟

• 作者: 祁阳 赵强 赵骞
• 来源期刊: 辽宁石油化工大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 分子动力学 外延生长 计算机模拟
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 67-71
• 分类号: O73
• 字数: 2742字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6952.2011.01.019

摘要

应用分子动力学方法模拟在刻有不同"深/宽"且截面为矩形凹槽的Cu衬底上进行同质外延生长的过程.原子间采用嵌入原子方法(EAM)模型.模拟结果表明,凹槽的"深/宽"及沉积粒子的入射能对晶界倾角θ和V→/V↑产生影响,θ随入射能增大而增大,V→/V↑随入射能增大而减小;在1 000 K温度时,"深/宽"为1/2时,不能形成较理想的薄膜,薄膜表面外延生长方向全部为竖直方向;而在"深/宽"为1/1,入射能为10 eV时,能形成较理想薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祁阳	东北大学理学院材料物理与化学研究所	45	91	5.0	8.0
2	赵骞	沈阳工业大学理学院	26	58	5.0	6.0
3	赵强	沈阳工业大学理学院	15	26	2.0	5.0