铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除

• 作者: 余志辉 曲景奎 王京刚 郭为 韩晓英 齐涛
• 来源期刊: 过程工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 铬酸钠 偏铝酸钠 脱硅 脱铝 常压 高压
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 反应与分离
• 页码范围: 590-594
• 分类号: O6-332
• 字数: 3749字
• 语种: 中文

摘要

采用铝硅含量分别为189.65和51.08 mg/L的铬酸钠配制溶液,通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅.常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6,无需CaO添加剂,60℃下反应40 min,几乎可完全脱除杂质硅;在高压釜中通过调节CO2压力为0.4 MPa,60℃下反应20 min,几乎能完全脱除杂质铝.化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别.高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应,溶液pH值随反应进行逐渐降低,趋于稳定,显示碳化反应近于平衡.