谷氨酸自组装膜对铜的缓蚀机理研究

• 作者: 何先明 张大全 李瑾 谢彬 高立新
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铜 谷氨酸 自组装膜 缓蚀作用 协同效应
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 56-61
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.2
• 语种: 中文

摘要

用电化学测量法研究不同组装时间、不同组装浓度和不同pH情况下谷氨酸自组装单分子膜(SAMs)对铜在0.5 mol/L HCl中的缓蚀作用,考察碘离子和谷氨酸单分子膜的协同作用,并通过量子化学计算探讨谷氨酸在铜表面的吸附机理.结果表明,谷氨酸自组装膜的缓蚀效率随组装时间和组装浓度的增加递增,最佳组装条件是在10 mmol/L组装溶液中组装12 h;在pH=10下形成的自组装单分子膜的缓蚀作用要优于其他pH下形成的自组装膜,碘离子的加入可进一步提高谷氨酸自组装膜对铜的保护效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大全		118	1115	18.0	29.0
2	高立新		71	771	18.0	25.0
3	李瑾		11	57	4.0	7.0
4	谢彬		1	0	0.0	0.0
5	何先明		1	0	0.0	0.0