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Next-generation lithography for 22 and 16 nm technology nodes and beyond
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | Next-generation lithography for 22 and 16 nm technology nodes and beyond | ||
| 来源期刊 | 中国科学 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 下一代光刻技术 纳米压印光刻 技术节点 极紫外光刻技术 天然气凝析液 EUVL 投影光刻 半导体产业 | ||
| 年，卷（期） | zgkx_2011,（5） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 959-979 | |
| 页数 | 21页 | 分类号 | TN305.7 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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