HP40合金抗结焦氧化膜的性能

• 作者: 袁霞光
• 来源期刊: 化学反应工程与工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 合金 低氧分压 氧化膜 结焦
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 166-174
• 分类号: TG174.4
• 字数: 3236字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7631.2011.02.013

摘要

在低氧分压气氛下氧化HP40合金,在合金表面形成具有抑制催化结焦能力的氧化膜,并采用X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱（XPS）和扫描电子显微镜（SEM)分析氧化膜的元素成分、物相绌构、表面和截面形貌,用热重天平分析氧化膜的增重规律,用结焦实验评价氧化膜的抗结焦性能.结果表明:经低氧分压处理后,在金属表面形成的氧化膜由表及里分为3层,分别为MnCr2O4尖晶石层、Cr2O3层和SiO2层,氧化膜的厚度约为2 μm,氧化温度为900℃时氧化膜的结焦抑制率可达到90％,氧化膜可有效抑制丝状催化焦炭的产生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁霞光	中国石油化工股份有限公司科技开发部	8	91	6.0	8.0